產(chǎn)品展示

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一氧化碳 CO

產(chǎn)品型號：40L

產(chǎn)品摘要

一氧化碳包裝：2L、4L、8L、40L、鋁合金鋼瓶、碳鋼瓶等注：凡含SO2、H2S、NO2、Cl2、NH3、等具有腐蝕性和活性氣體組份標(biāo)準(zhǔn)氣都采用特殊處理氣瓶貯存，并統(tǒng)一采用不銹鋼瓶閥。

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詳細(xì)介紹

一氧化碳產(chǎn)品規(guī)格和技術(shù)指標(biāo)

容器規(guī)格	容器尺寸 (cm)	平均重量 (kg)	閥門/螺紋出口	充裝量
40L	22×140	56	QF-30 螺紋W21.8-14L	13.5MPa/5.4Nm3/6kg

成分		一氧化碳	高純一氧化碳	高純一氧化碳	單位
一氧化碳	≥	99.9%	99.99%	99.995%	%V
氫氣	≤	20	2	2	ppmv
氧氣（氬氣）	≤	250	15	5	ppmv
氮?dú)?/td>	≤	650	70	20	ppmv
二氧化碳	≤	50	8	3	ppmv
總碳（以甲烷計(jì)）	≤	-	3	2	ppmv
水份	≤	50	7	2	ppmv

一氧化碳產(chǎn)品說明

一氧化碳在常溫常壓下為無色、無臭、無味、無刺激性的窒息性氣體，標(biāo)準(zhǔn)狀況下一氧化碳?xì)怏w密度為1.25g/L，接近于空氣密度(標(biāo)準(zhǔn)狀況下1.293g/L）。工業(yè)中常用灰色鋼瓶包裝，并在鋼瓶上噴有紅色“一氧化碳”字樣，并貼有可燃、壓縮、有毒的標(biāo)識圖，閥門使用QF-30C等反螺紋出口的瓶頭閥。一氧化碳在空氣中可燃，燃燒時(shí)發(fā)出藍(lán)色火焰，在空氣中的爆炸極限是12.5%～74%。
一氧化碳中毒是其與血紅蛋白的親合力比氧與血紅蛋白的親合力高達(dá)300倍，所以一氧化碳極易與血紅蛋白結(jié)合使血紅蛋白喪失攜氧的能力和作用，造成大腦等組織缺氧窒息，一氧化碳中毒者往往難于自救。平時(shí)說的煤氣中毒實(shí)際上就是一氧化碳中毒。防止一氧化碳中毒請參考

工業(yè)上一氧化碳的生產(chǎn)有甲醇裂解制一氧化碳、水煤氣制取一氧化碳等，用黃磷尾氣、密閉電石爐爐氣、煉鋼轉(zhuǎn)爐氣、高爐氣、碳黑尾氣等富含一氧化碳的工業(yè)尾氣提純回收一氧化碳更是一種環(huán)保增效的生產(chǎn)方式。

一氧化碳在高溫高壓下，與鐵鉻鎳等金屬反應(yīng)生成羰基金屬，與氯結(jié)合形成光氣，與羰基金屬結(jié)合形成羰基金屬化合物。一氧化碳具有還原作用，在室溫下有錳及銅的氧化物混合存在時(shí)，一氧化碳可氧化成CO2，有一種防毒面具就是利用這種原理的。一氧化碳主要作為燃料，還原劑，有機(jī)合成的原料，用于制備羰基金屬、光氣、硫氧化碳、芳香族醛、甲酸、苯六酚、氯化鋁、甲醇，用于氫化甲酰化作用，用于羅非魚保鮮、制備合烴(合成汽油)、合醇(羧、乙醇、醛、酮及碳?xì)浠衔锏幕旌衔?，鋅白顏料，氧化鋁成膜，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣。

1, 3 butadiene, pure hydrogen and high purity oxygen, nitrogen, argon, hydrogen, nitrogen dioxide, trimethyl bromide boron TMB, silane and silane mix other gas, hydrogen, nitrogen trifluoride selenide, boron trifluoride, liquid ammonia, etching gas, electronic gas, six fluoride oxide, hydrogen sulfide, and methane, high pure butane, high purity isobutane methane, high purity, high purity, high purity propane butane, high-purity propylene and isobutylene, butadiene, ethane, butene, anti - 2 - butene, propylene, propiolic, vinyl acetylene, ethyl acetylene, carbonyl sulfur, allene, sulfur hexafluoride, new pentane, carbon tetrafluoride, eight fluorine cyclobutane, nitric oxide, high purity nitrous oxide (n2o), hydrogen chloride, high purity helium, ultrapure, ultra pure nitrogen, pure argon and helium gas standard.Trimethyl gallium, trimethyl indium gallium, trimethyl aluminum, triethyl, triethyl indium, diethyl zinc, zinc dimethyl, dicyclopentadienyl magnesium source (MO)

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